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靜電放電(ESD)的基本模型

日期:2024-09-18 18:21
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摘要: 靜電放電產(chǎn)生的失效機(jī)制主要有兩種,一種是熱擊穿,一種是電擊穿。產(chǎn)生熱擊穿的根本原因是ESD脈沖產(chǎn)生了瞬間大電流,這時(shí)因?yàn)榘雽?dǎo)體組件的熱傳導(dǎo)特性都不是很好,由ESD電流所產(chǎn)生的大量熱量使得溫度上升,而由于ESD現(xiàn)象所發(fā)生的時(shí)間非常短暫,所以此過程中產(chǎn)生的熱量很難被泄放。產(chǎn)生電擊穿的根本原因是大電場所引起的介質(zhì)擊穿,這種情況經(jīng)常發(fā)生在MOSFET的柵氧處。知道了產(chǎn)生ESD損害的原因,我們在ESD防護(hù)設(shè)計(jì)中就需要處理大電流和高電壓的問題。因此,片上ESD防護(hù)的原則有以下兩條:一是通過低阻通道**泄放ESD電流,二是將電壓...

       靜電放電產(chǎn)生的失效機(jī)制主要有兩種,一種是熱擊穿,一種是電擊穿。產(chǎn)生熱擊穿的根本原因是ESD脈沖產(chǎn)生了瞬間大電流,這時(shí)因?yàn)榘雽?dǎo)體組件的熱傳導(dǎo)特性都不是很好,由ESD電流所產(chǎn)生的大量熱量使得溫度上升,而由于ESD現(xiàn)象所發(fā)生的時(shí)間非常短暫,所以此過程中產(chǎn)生的熱量很難被泄放。產(chǎn)生電擊穿的根本原因是大電場所引起的介質(zhì)擊穿,這種情況經(jīng)常發(fā)生在MOSFET的柵氧處。知道了產(chǎn)生ESD損害的原因,我們在ESD防護(hù)設(shè)計(jì)中就需要處理大電流和高電壓的問題。因此,片上ESD防護(hù)的原則有以下兩條:一是通過低阻通道**泄放ESD電流,二是將電壓鉗在一個(gè)較低的水平。

    靜電放電模型

    ESD事件依據(jù)靜電放電產(chǎn)生原因及其對集成電路放電方式的不同可分成以下四類模型:

    (1)人體放電模型(HBM, Human-Body Model)

    (2)機(jī)器放電模型(MM, Machine Model)

    (3)器件充電模型(CDM, Charged-Device Model)

    (4)電場感應(yīng)模型(FIM, Field-Induced Model)

    以*為人熟知也*常用的人體放電模型(HBM)為例來介紹下ESD模型的概念。HBM模型是指通過接觸芯片,人體上由于摩擦或其他因素所積累的靜電從芯片內(nèi)流過泄放至地,放電時(shí)間只有幾百納秒,而瞬間的放電電流可達(dá)到數(shù)安培,從而足以將芯片內(nèi)部的組件燒毀。對于一般商用芯片標(biāo)準(zhǔn)2KV 靜電防護(hù)電壓而言,其對應(yīng)的瞬間放電電流*大值可達(dá)到1.33A。


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